新型ORION 3100 AMC空气分子污染物监测系统

检测气体：HCI, HF, NH3, VOC’S
                                                                              

特点：
实时监测亚ppb级测量结果
CEAS操作原理
在残酷有危险的环境中可以进行持续，自动化操作
无需试剂，放射源，纸带，吸收管或其他昂贵的耗材
长期稳定性和可靠性
立方式电子，无移动部件
最长运行时间，最低成本维护
每个显示器都经工厂校准并配备有性能应用规格说明书
用于单一/多重痕量气体化合物探测的CEAS分析仪
具有独特的可编程报警级别的可编程报警和故障继电器
可编程的采样点排序与单通道清洗和分析
开放的通信协议，以方便与现有系统的集成服务
电源关闭或断电期间无数据丢失现象
触摸显示屏可以轻松更改或更新图形和操作功能
连接 1/4‘’OD(外径）
管道：PFA, PVDF
每条检测通道最大管道长度：80mt
PC面板是彩色触摸屏方便操作图表和其他功能
通过Radmin软件或其他相似软件进行远程可视化操作
任何载体和其他设备
输出信号：标准：RS232， 可选Ethernet:4-20mA，Modbus
供电率：115-230 Vac  50/60Hz
通过可选校准渗透器校准验证
快速循环泵采样

在洁净室中对HCL, HF, NH3 痕量气体实时超高灵敏度测量。
在光刻处理过程中，DUV技术已被证明对分子型污染物具有超高灵敏性。
关于材料和过滤器寿命DUV的演变，并没有减少对实时监控的需求，测量空气中存在的污染物是至关重要的因素。
ETG 软件HMI(人机界面）允许实时显示NH3, HCL, HF的值，并可以对不同采样点的采样数据进行管理。该软件为半导体工厂监测和控制DUV光刻处理过程中的空气污染而编写，并具有任何工业环境应用中所要求灵活性，需要对一个或多个CEAS分析仪进行多点采样分析。
该软件功能基于Windows环境包括易于交互控制的警报器，数据记录，趋势显示和分析仪等管理功能。
对环境污染的实时监测对于半导体的加工处理是至关重要的。因此，快速探测和警报系统，低浓度监测，大范围采样，对于测量许多不同气体的敏感性也是很重要的。DUV光刻技术尤其擅长监测氨、胺、NMP 和酸性气体。
监控系统的前提是基于间接的分析方法。这些方法包括扩散器，离子色谱法和化光化学法，通常它们测量速度太慢，管理太复杂且价格昂贵，测量结果不太精确。
ETG使用CEAS成熟技术来解决如何监测空气中污染的问题，以检测氨，HF，HCl。脉冲荧光SO2和GC-FID技术，用以检测特殊的挥发性有机化合物。
用于检测氨，HCl，HF痕量气体的ORION 3100与uVOC-CAM相结合，成为洁净室空气分子污染市场上最强大的探测工具之一。3100 ORION gesetire能够使用Ethernet，Modbus RS232 / RS485或可选模块4-20mA输出最多4-6个分析仪或气体传感器的数据。
每个分析仪都内置一台计算机（Linux操作系统），可以在硬盘上无限制存储数据，并通过数字（RS232）或Ethernet输出端口将实时数据发送到数据记录器。 此外，对于所有ETG系列分析仪，都可以通过互联网远程控制。
这种功能允许用户在任何有网络的地方使用Web浏览器操作分析仪，并且允许远程访问仪器的BIOS级别控制，无需在现场便可获取仪器的诊断和操作数据结果。