2017-08-05
检测气体:HCI, HF, NH3, VOC’S
特点: 实时监测亚ppb级测量结果 CEAS操作原理 在残酷有危险的环境中可以进行持续,自动化操作 无需试剂,放射源,纸带,吸收管或其他昂贵的耗材 长期稳定性和可靠性 立方式电子,无移动部件 最长运行时间,最低成本维护 每个显示器都经工厂校准并配备有性能应用规格说明书 用于单一/多重痕量气体化合物探测的CEAS分析仪 具有独特的可编程报警级别的可编程报警和故障继电器 可编程的采样点排序与单通道清洗和分析 开放的通信协议,以方便与现有系统的集成服务 电源关闭或断电期间无数据丢失现象 触摸显示屏可以轻松更改或更新图形和操作功能 连接 1/4‘’OD(外径) 管道:PFA, PVDF 每条检测通道最大管道长度:80mt PC面板是彩色触摸屏方便操作图表和其他功能 通过Radmin软件或其他相似软件进行远程可视化操作 任何载体和其他设备 输出信号:标准:RS232, 可选Ethernet:4-20mA,Modbus 供电率:115-230 Vac 50/60Hz 通过可选校准渗透器校准验证 快速循环泵采样
在洁净室中对HCL, HF, NH3 痕量气体实时超高灵敏度测量。 在光刻处理过程中,DUV技术已被证明对分子型污染物具有超高灵敏性。 关于材料和过滤器寿命DUV的演变,并没有减少对实时监控的需求,测量空气中存在的污染物是至关重要的因素。 ETG 软件HMI(人机界面)允许实时显示NH3, HCL, HF的值,并可以对不同采样点的采样数据进行管理。该软件为半导体工厂监测和控制DUV光刻处理过程中的空气污染而编写,并具有任何工业环境应用中所要求灵活性,需要对一个或多个CEAS分析仪进行多点采样分析。 该软件功能基于Windows环境包括易于交互控制的警报器,数据记录,趋势显示和分析仪等管理功能。 对环境污染的实时监测对于半导体的加工处理是至关重要的。因此,快速探测和警报系统,低浓度监测,大范围采样,对于测量许多不同气体的敏感性也是很重要的。DUV光刻技术尤其擅长监测氨、胺、NMP 和酸性气体。 监控系统的前提是基于间接的分析方法。这些方法包括扩散器,离子色谱法和化光化学法,通常它们测量速度太慢,管理太复杂且价格昂贵,测量结果不太精确。 ETG使用CEAS成熟技术来解决如何监测空气中污染的问题,以检测氨,HF,HCl。脉冲荧光SO2和GC-FID技术,用以检测特殊的挥发性有机化合物。 用于检测氨,HCl,HF痕量气体的ORION 3100与uVOC-CAM相结合,成为洁净室空气分子污染市场上最强大的探测工具之一。3100 ORION gesetire能够使用Ethernet,Modbus RS232 / RS485或可选模块4-20mA输出最多4-6个分析仪或气体传感器的数据。 每个分析仪都内置一台计算机(Linux操作系统),可以在硬盘上无限制存储数据,并通过数字(RS232)或Ethernet输出端口将实时数据发送到数据记录器。 此外,对于所有ETG系列分析仪,都可以通过互联网远程控制。 这种功能允许用户在任何有网络的地方使用Web浏览器操作分析仪,并且允许远程访问仪器的BIOS级别控制,无需在现场便可获取仪器的诊断和操作数据结果。