2017-08-05
我司将于2018年7月26日至29日在武汉参加“2018华人光催化材料学术研讨会(CSPM1)”。本次会议以能源与环境光催化材料为主题,由武汉理工大学、福州大学与许昌学院联合举办,并邀请付贤智院士、赵进才院士和邹志刚院士担任本次会议的荣誉主席,旨在为光催化领域的海外华人和国内专家提供一个高水平的成果交流平台的学术研讨会。会议内容涵盖大会报告、主题报告、邀请报告、口头报告、墙报展示以及光催化产品展览,并设立优秀墙报奖。会后将在国际期刊Applied Surface Science (ASS)与中国催化学报(CJC)上发表专辑,2018年ASS与CJC的影响因子预计分别为4.3与3.5左右。
我公司将在此次会议上展示催化过程气体分析监测系统以及痕量级光声光谱多气体分析仪,与现有光催化反应器、热催化反应器和吸附反应器等组成联用,可实现原位快速分析监测光催化过程中微量气体产生与分解的浓度变化,旨在对光催化材料的机理研究、催化能效研究提供高效的测试分析手段。
竭诚欢迎广大新老客户光临论坛,指导交流。
大会时间地点
时间:2018年7月26~29日
地址:武汉理工大学
参会网址:http://CSPM1.do.am
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